发明名称 | 一种生产含有少量氧化钠的氧化铝的方法 | ||
摘要 | 提出了一种生产含少量氧化钠和少量硅石的氧化铝的方法。该方法包括将含有氧化钠的铝化合物与减少氧化钠的介质混合得到混合物的步骤,该减少氧化钠的介质含有硅石基材料和带有非硅石基陶瓷涂层的另一种硅石基材料,煅烧该混合物并将生成的氧化铝与减少氧化钠的介质分离。 | ||
申请公布号 | CN1228245C | 申请公布日期 | 2005.11.23 |
申请号 | CN02124660.2 | 申请日期 | 2002.06.24 |
申请人 | 住友化学工业株式会社 | 发明人 | 高桥浩;近藤敏司 |
分类号 | C01F7/02;C01F7/46 | 主分类号 | C01F7/02 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 黄力行 |
主权项 | 1.一种生产氧化铝的方法,所述方法包括步骤:将含有氧化钠的铝化合物与减少氧化钠的介质混合得到混合物,所述减少氧化钠的介质由硅石基材料和带有非硅石基陶瓷涂层的另一种硅石基材料组成;煅烧所述混合物;和将生成的氧化铝与所述减少氧化钠的介质分离,其特征在于,所用的带陶瓷涂层的硅石基材料和不带涂层的硅石基材料的数量前者为20%至80%的重量百分比,后者为80%至20%的重量百分比,基于它们的总重量计算,形成涂层的非硅石基陶瓷的数量为带陶瓷涂层的硅石基材料的5%重量百分比或更多,所述带陶瓷涂层的硅石基材料具有为其本身50%或更多的重量百分比的SiO2的含量。 | ||
地址 | 日本大阪府 |