发明名称 |
具有动态光瞳填充的剪切干涉仪 |
摘要 |
一种包括电磁辐射源的波前测量系统。把所述电磁辐射传送到物平面的照明系统。衍射图案的源在物平面内。投射光学系统把衍射图案投射到像平面,该投射光学系统包括引进横向剪切的机构(如剪切光栅)。检测器置于光学上与投射光学系统的光瞳共轭位置,并从像平面接收剪切波前之间干涉产生的瞬时条纹图案。该衍射图案动态地扫描投射光学系统的光瞳,并把从检测器得到的时间积分干涉图,用于测量整个光瞳上的波前像差。 |
申请公布号 |
CN1700099A |
申请公布日期 |
2005.11.23 |
申请号 |
CN200510072774.6 |
申请日期 |
2005.05.19 |
申请人 |
ASML控股股份有限公司 |
发明人 |
阿扎特·M·拉特普维;谢尔曼·K.·保尔特内;约里·瓦拉迪米斯克 |
分类号 |
G03F7/20;G01B9/02 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
蒋世迅 |
主权项 |
1.一种波前测量系统,包括:电磁辐射源;把所述电磁辐射引向物平面的照明系统;在物平面中产生衍射图案的物体;把所述物体的像投射在像平面上的投射光学系统;和从所述像平面接收条纹图案的检测器,其中衍射图案被扫描越过所述投射光学系统的光瞳。 |
地址 |
荷兰费尔德霍芬 |