发明名称 具有动态光瞳填充的剪切干涉仪
摘要 一种包括电磁辐射源的波前测量系统。把所述电磁辐射传送到物平面的照明系统。衍射图案的源在物平面内。投射光学系统把衍射图案投射到像平面,该投射光学系统包括引进横向剪切的机构(如剪切光栅)。检测器置于光学上与投射光学系统的光瞳共轭位置,并从像平面接收剪切波前之间干涉产生的瞬时条纹图案。该衍射图案动态地扫描投射光学系统的光瞳,并把从检测器得到的时间积分干涉图,用于测量整个光瞳上的波前像差。
申请公布号 CN1700099A 申请公布日期 2005.11.23
申请号 CN200510072774.6 申请日期 2005.05.19
申请人 ASML控股股份有限公司 发明人 阿扎特·M·拉特普维;谢尔曼·K.·保尔特内;约里·瓦拉迪米斯克
分类号 G03F7/20;G01B9/02 主分类号 G03F7/20
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 蒋世迅
主权项 1.一种波前测量系统,包括:电磁辐射源;把所述电磁辐射引向物平面的照明系统;在物平面中产生衍射图案的物体;把所述物体的像投射在像平面上的投射光学系统;和从所述像平面接收条纹图案的检测器,其中衍射图案被扫描越过所述投射光学系统的光瞳。
地址 荷兰费尔德霍芬