半导体制造系统

摘要

本发明实现一种半导体制造系统，能使CVD成膜所需要的处理加工时间的缩短。在用加热器加热晶片以后，而且由加热器检出的温度实质上变成恒定以前，利用CIM3，构筑决定成膜结束时间的结束时间决定部5。

主权项

1、一种半导体制造系统，其特征是具备：成膜装置，包括：用于收容衬底并在该衬底上形成膜的成膜室和加热上述衬底的加热装置；温度控制装置，包括：用于检测上述成膜室的内部和外部至少一方温度的温度检测装置和根据该温度检测装置检测的温度，控制上述加热装置使其以规定温度加热上述衬底的控制装置本体；以及时间决定装置，用于决定成膜开始及成膜结束的时间，使在上述加热装置加热上述衬底以后且在上述温度检测装置检出的温度实质上成为一定之前就可进行上述膜的成膜。