| 主权项 |
1.一种抛弃式擦拭棒结构,包括管体、塞体、涂染体,该管体内部填充设有流体,该管体一端设有塞体,另一端则设有涂染体;其特征在于:该管体与塞体设有可以互相对合的气孔,利用塞体移动的方式,使气孔导通者。2.如申请专利范围第1项所述之抛弃式擦拭棒结构,其中该管体在对应于塞体之一端设有薄膜,该塞体在对应于薄膜处设有可以刺穿薄膜的尖锥部者。3.一种抛弃式擦拭棒结构,包括管体、塞体、涂染体、盖体,该管体内部填充设有流体,该管体一端设有塞体,另一端则设有涂染体;其特征在于:该塞体外部枢结设有盖体,该塞体与盖体设有可以互相对合的气孔,利用盖体旋动的方式,使气孔导通者。4.如申请专利范围第1或3项所述之抛弃式擦拭棒结构,其中该气孔系由单一个或复数个所组成者。5.如申请专利范围第1或3项所述之抛弃式擦拭棒结构,其中该流体可为医疗用消毒药水、文具用彩色笔色料、化妆用液剂者。6.如申请专利范围第1或3项所述之抛弃式擦拭棒结构,其中该管体外部系用冲压方式形成向内凹陷的定位部,藉以固定于该涂染体者。7.如申请专利范围第1或3项所述之抛弃式擦拭棒结构,其中该涂染体设有对应的定位部者。图式简单说明:第一图:系本创作实施一之立体分解示意图。第二图:系本创作实施一之断面组合示意图。第三图:系本创作实施二之立体分解示意图。第四图:系本创作实施二之断面组合示意图。第五图:系本创作实施二之使用状态示意图。第六图:系本创作实施三之立体分解示意图。第七图:系本创作实施三之断面组合示意图。第八图:系本创作实施三之使用状态示意图。第九图:系本创作实施四之立体分解示意图。第十图:系本创作实施四之断面组合示意图。第十一图:系本创作实施四冲压时之立体剖面示意图。第十二图:系本创作实施四冲压后之立体剖面示意图。第十三图:系本创作实施四之使用状态示意图。第十四图:系本创作应用于消毒药水之使用状态示意图。第十五图:系本创作应用于彩色笔之使用状态示意图。第十六图:系本创作应用于唇膏之使用状态示意图。 |
