| 主权项 |
1.一种投影系统,其包括至少一投影装置(10),其配置用于接受来自一第一物体(MA)的一投影光束(PB),并将其投影光束投射至一第二物体(W),该投影系统(PL)进一步包括至少一感测器(11),用于测量该至少一投影装置(10)的空间方位,其特征在于该投影系统(PL)包括至少一处理单元(40),其配置用于连接该至少一感测器(11),其中该至少一处理单元(40)进一步的配置用于连接一定位装置(PW,PM),其根据所测得该至少一投影装置(10)的空间方位,来调整该第一物体(MA)与第二物体(W)之中至少一个的位置。2.如申请专利范围第1项之投影系统,其特征在于该处理单元(40)进一步配置用于连接一另外的定位装置(12),根据所测得该至少一投影装置(10)的空间方位来调整该至少一投影装置(10)的空间方位。3.如申请专利范围第2项之投影系统,其特征在于该投影系统的配置用于调整该第一物体(MA)与第二物体(W)之中至少一个的位置,此调整是以调整该至少一投影装置(10)的空间方位之后的一剩余误差为依据。4.如申请专利范围第2或3项之投影系统,其特征在于根据该至少一投影装置(10)在一第一频率范围内所测得的空间位置,该处理单元(40)配置用于调整该第一物体(MA)与第二物体(W)之中至少一个的位置,以及根据该至少一投影装置(10)在一第二频率范围内所测得的空间方位,来调整该至少一投影装置(10)的空间方位。5.如申请专利范围第1,2或3项之投影系统,其特征在于该至少一投影装置(10)包括面镜和透镜之中至少一个。6.如申请专利范围第1,2或3项之投影系统,其特征在于该至少一投影装置(10)是固定在一固定装置(12)上,其配置用于在至少一个至多六个自由度驱动该至少一投影装置。7.如申请专利范围第1,2或3项之投影系统,其特征在于该投影光束(PB)是一极端的紫外线辐射光束。8.如申请专利范围第1,2或3项之投影系统,其特征在于该至少一处理单元(40)进一步的配置用于连接至少一另外的感测器(47,48),来决定该第一物体(MA)与第二物体(W)之中至少一个的位置。9.如申请专利范围第1,2或3项之投影系统,其特征在于该至少一处理单元(40)包括一输入/输出-装置(41)、一微处理器(42)、以及一记忆体装置(43)。10.一种使用一投影系统(PL)的方法,该系统包括至少一投影装置(10)的配置,用于接受来自一第一物体(MA)的一投影光束(PB),并将其投影光束投射至一第二物体(W),该投影系统(PL)进一步包括至少一感测器(11),用于测量该至少一投影装置(10)的空间方位,该方法包括以该至少一感测器(11)测量该至少一投影装置(10)的空间方位,决定该至少一投影装置(10)空间方位的一方位误差,根据该至少一投影装置(10)空间方位的方位误差,来计算投射在该第二物体(W)上影像的投影误差,调整该第一物体(MA)与第二物体(W)之中至少一个的位置,为使该投影误差降低至最小。11.如申请专利范围第10项之方法,其包括应用一穿透性影像感测器(50),来改善该第一物体(MA)相对于该第二物体(W)在一个到至多六个自由度的刻度化对准之精确度,其利用投射在该第二物体(W)上影像计算所得的投影误差。图式简单说明:图1描绘的是本发明之投影系统可以组合包括在内的一种光微影投影仪器;图2描绘的是根据先前技艺的一种投影系统;图3a和图3b描绘根据本发明之一不同的具体实施例中一投影系统;图4描绘能够用于根据本发明之投影系统中一处理单元。 |
