| 主权项 |
1.一种可重复使用的遮罩之制造方法,其包括下列步骤:(a)提供一基材,该基材具有一第一表面及相对应之一第二表面;(b)提供一雷射机构;以及(c)藉由雷射拖拉法,以该雷射机构发射复数道雷射光,且令该等雷射光加工该基材,该等雷射光系使该基材之第一表面及第二表面产生相对应之至少一交集加工区域以形成孔洞图案。2.如申请专利范围第1项所述之可重复使用的遮罩之制造方法,其中该基材包括矽晶圆。3.如申请专利范围第1项所述之可重复使用的遮罩之制造方法,其中之雷射光系为近紫外光短脉冲雷射。4.一种可重复使用的遮罩之玻璃的蚀刻方法,其包括下列步骤:(a)提供一玻璃,该玻璃具有一第一表面及相对应之一第二表面;(b)提供至少一基材,该基材具有一第一表面及相对应之一第二表面,且该基材具有穿透该第一表面及相对应之该第二表面之孔洞图案;(c)将该玻璃之该第一表面与该基材之该第一表面接合在一起;(d)提供一夹持具,并将该玻璃及该基材置入该夹持具内,且该夹持具与该玻璃及该基材紧密配合;(e)提供一蚀刻液,并将该玻璃、该基材及该夹持具一起置入该蚀刻液中,利用该夹持具与该玻璃及该基材紧密的配合,使得该蚀刻液无法从该夹持具与该玻璃,及该夹持具与该基材接触之边缘渗入,并使得该蚀刻液仅能从该基材之穿透孔洞进入以接触腐蚀该玻璃之该第一表面,且控制该蚀刻液之浓度及腐蚀时间,以完成玻璃的腐蚀;以及(f)提供一雷射机构,藉由该雷射机构发射一雷射光,而将该玻璃及该基材分离。5.如申请专利范围第4项所述之可重复使用的遮罩之玻璃的蚀刻方法,其中该基材包括矽晶圆。6.如申请专利范围第4项所述之可重复使用的遮罩之玻璃的蚀刻方法,其中之雷射光系为近紫外光短脉冲雷射。7.如申请专利范围第4项所述之可重复使用的遮罩之玻璃的蚀刻方法,其中该玻璃及该基材结合之方法系利用阳极接合法结合。8.如申请专利范围第4项所述之可重复使用的遮罩之玻璃的蚀刻方法,其中该玻璃更可以先后与具有不同孔洞图案之该基材结合,再分别置入紧密配合之该夹持具,接着分别置入该蚀刻液中腐蚀该玻璃,使该玻璃之该第一表面具有该些基材之不同孔洞图案之组合图形。9.如申请专利范围第8项所述之可重复使用的遮罩之玻璃的蚀刻方法,其中具有不同孔洞图案之该些基材,更分别具有凹座及凸榫其中之一。10.如申请专利范围第4项所述之可重复使用的遮罩之玻璃的蚀刻方法,其中该蚀刻液包括强酸溶液及强硷溶液其中之一。11.如申请专利范围第4项所述之可重复使用的遮罩之玻璃的蚀刻方法,其中该玻璃及该基材之分离方法,系利用该雷射机构发射雷射光照射该玻璃及该基材之结合面而使之分离,其光源包括近紫外光短脉冲雷射。12.如申请专利范围第4项所述之可重复使用的遮罩之玻璃的蚀刻方法,其中该夹持具之材质系为铁氟龙。图式简单说明:图一绘示为习知玻璃图案制作流程之示意图。图二A绘示为依照本发明一较佳实施例之遮罩之制造方法。图二B绘示为雷射拖拉法加工示意图。图三A绘示为依照本发明一较佳实施例之具有遮罩之玻璃蚀刻方法示意图。图三B绘示为依照本发明一较佳实施例之玻璃二次蚀刻及基材制作示意图。图三C绘示为本实施例之夹持具示意图。图四绘示为本发明之技术流程图。 |
