发明名称 半导体装置
摘要 本发明系一种半导体装置,具有:梯形的第1基极电极及薄长方形的第1射极电极、平板形的第2基极电极、第2射极电极,可确保接合面积,对第1射极电极而言,引线接合位置为有效之配置,但第2射极电极中心附近的基极区域到第2基极电极的距离较长,而有载子萃取较慢的问题。在晶片的一边导出基极及射极端子,将第2射极电极设成平板形,相对于配置有外部端子的晶片边垂直地延伸第1射极电极的半导体装置中,在第2射极电极的附近装设第2基极电极的突出部。藉此,使第2射极电极附近之单元的基极区域可接近第2基极电极,而可提高射极电阻的降低和基极区域的载子之莘取速度。
申请公布号 TWI244208 申请公布日期 2005.11.21
申请号 TW093133776 申请日期 2004.11.05
申请人 三洋电机股份有限公司 发明人 赤木修
分类号 H01L29/72 主分类号 H01L29/72
代理机构 代理人 洪武雄 台北市中正区博爱路80号6楼;陈昭诚 台北市中正区博爱路80号6楼
主权项 1.一种半导体装置,系具备:当作集极区域的一导电型半导体基板;设于前述基板上的逆导电型基极区域;在前述基极区域表面设成格子形的一导电型射极区域;与前述基极区域接触的第1基极电极;与前述射极区域接触的第1射极电极;一个第2基极电极,隔介绝缘膜设于前述第1基极电极及前述第1射极电极上,且与前述第1基极电极连接;以及一个第2射极电极,隔介前述绝缘膜设于前述第1基极电极及前述第1射极电极上,且与前述第1射极电极连接;同时,将前述第2射极电极下方的第1基极电极及第1射极电极并列配置复数个,该复数个第1基极电极系于端部成束地连接于前述第2基极电极,前述第2基极电极系具有突出部,该突出部系分隔前述第2射极电极的一部分,且与前述并列的第1基极电极及第1射极电极正交并延伸。2.如申请专利范围第1项之半导体装置,其中,前述第2基极电极下方的前述第1射极电极系具有格子形状。3.如申请专利范围第1项之半导体装置,其中,藉由前述突出部分隔的区域系至少具有可固设连接于前述第2射极电极的连接手段之面积。4.一种半导体装置,系具备:半导体晶片,在半导体基板设置集极区域、基极区域和射极区域,且具有接触于前述基极区域的第1基极电极、接触于前述射极区域的第1射极电极、及隔介绝缘膜而设于前述第1基极电极及第1射极电极上的第2基极电极及第2射极电极;基极端子及射极端子,沿着前述半导体晶片之一边而设置;以及连接手段,分别连接前述基极端子和前述第2基极电极及前述射极端子和第2射极电极;同时,将前述第2射极电极下方的前述第1基极电极及第1射极电极垂直地配置在前述一边,而前述第2基极电极系具有突出部,该突出部系分隔前述第2射极电极的一部分,且并列延伸在前述一边。5.如申请专利范围第4项之半导体装置,其中,前述连接手段系固设在沿着前述一边的前述半导体晶片的端部附近。6.如申请专利范围第1项或第4项之半导体装置,其中,藉由前述突出部将前述第2射极电极的一部分分隔成大致均等。7.如申请专利范围第1项或第4项之半导体装置,其中,在前述突出部下方的前述绝缘膜设有与前述第1基极电极接触的接触孔。图式简单说明:第1(A)及(B)图系用以说明本发明的俯视图。第2图系用以说明本发明的(A)俯视图、(B)剖视图、(C)剖视图。第3图系用以说明本发明的俯视图。第4图系用以说明先前技术的(A)俯视图、(B)俯视图、(C)剖视图。第5(A)至(C)图系用以说明先前技术的俯视图。
地址 日本
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