发明名称 氢气、氧气供给系统
摘要 本发明之氢气、氧气供给系统,系具有藉由固体电解质膜被隔离成阳极侧与阴极侧的电解室,在上述电解室供给纯水而在上述阴极侧生成氢气,在上述阳极侧生成氧气,上述氢气及氧气之至少一方可供给于使用处之构成的氢气、氧气供给系统,其特征为:具备可检测经由上述电解室之上述阴极侧所供给之上述氢气之压力的第一压力检测手段,及可检测经由上述电解室之上述阳极侧所供给之上述氧气之压力的第二压力检测手段,及比较上述第一压力检测手段所得到之压力检测讯号与上述第二压力检测手段所得到之压力检测讯号而可产生所定之差压讯号的差压检测手段,及依据上述差压讯号可调整上述氢气之压力的第一保险机构;及依据上述差压讯号可调整上述氧气之压力的第二保险机构;使用上述第一及第二保险机构来调整上述电解室内之上述阳极侧压力与上述阴极侧压力。
申请公布号 TWI243863 申请公布日期 2005.11.21
申请号 TW090116642 申请日期 2001.07.06
申请人 神钢泛技术股份有限公司 发明人 广濑润;安井信一;小林宏子;宫泽慎二;森冈辉行;中尾末贵;细见优;上村全弘
分类号 C25B15/02;C25B15/08;C25B9/00;C25B1/04 主分类号 C25B15/02
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 1.一种氢气、氧气供给系统,系具有藉由固体电解 质膜被隔离成阳极侧与阴极侧的电解室,在上述电 解室供给纯水而在上述阴极侧生成氢气,在上述阳 极侧生成氧气,上述氢氧及氧气之至少一方可供给 于使用处之构成的氢气、氧气供给系统,其特征为 : 使用可搬运上述氢气之氢气气体搬运配管部,连接 有上述电解室,及构成可储存上述氢气的氢气分离 槽; 经由上述氢气气体搬运配管部及上述氢气分离槽, 构成能供给在上述电解室所生成之上述氢气; 在上述氢气气体搬运配管部,设有氢气气体搬运阀 ,及形成能迂回上述氢气气体搬运阀的旁通配管部 ; 在上述旁通配管部设有止回阀; 在所定压力对于上述旁通配管部作用时,开放能将 上述氢气流通至上述氢气分离槽的上述止回阀。 2.一种氢气、氧气供给系统,系具有藉由固体电解 质膜被隔离成阳极侧与阴极侧的电解室,在上述电 解室供给纯水而在上述阴极侧生成氢气,在上述阳 极侧生成氧气,上述氢气及氧气之至少一方可供给 于使用处之构成的氢气、氧气供给系统,其特征为 :具备: 可检测经由上述电解室之上述阴极侧所供给之上 述氢气之压力的第一压力检测手段,及 可检测经由上述电解室之上述阳极侧所供给之上 述氧气之压力的第二压力检测手段,及 比较上述第一压力检测手段所得到之压力检测讯 号与上述第二压力检测手段所得到之压力检测讯 号而可产生所定之差压讯号的差压检测手段,及 依据上述差压讯号可调整上述氢气之压力的第一 保险机构,及 依据上述差压讯号可调整上述之氧气之压力的第 二保险机构; 使用上述第一及第二保险机构来调整上述电解室 内之上述阳极侧压力与上述阴极侧压力; 设有储存在上述电解室所生成的上述氧气的氧气 分离槽,而在上述氧气分离槽设有能将上述氧气分 离槽内的纯水不会接触到外气可循环的纯水循环 配管部; 在上述纯水循环配管部设有循环水泵,抛光器或过 滤器,而在上述循环水泵,抛光器及过滤器之至少 任一处设有抽气装置。 3.如申请专利范围第2项所述之氢气、氧气供给系 统,其中, 构成将所定値之电流供给于上述电解室,俾生成上 述氢气及上述氧气; 构成从未将上述电流供给于上述电解室之状态一 直到成为供给上述所定値电流之状态,需要所定时 间。 4.如申请专利范围第2项所述之氢气、氧气供给系 统,上述第一保险机构系使用设于储存上述氢气之 氢气分离槽的第一保险配管部,及依据设于上述第 一保险配管部之上述差压讯号可控制的第一保险 阀所构成; 上述第二保险机构系使用设于储存在上述电解室 所生成之上述氧气之氢气分离槽的第二保险配管 部,及依据设于上述第二保险配管部之上述差压讯 号可控制的第二保险阀所构成。 5.如申请专利范围第2项所述之氢气、氧气供给系 统,其中,在上述纯水循环配管部,设有水质警报手 段,水温警报手段及循环水量警报手段之至少一方 。 6.如申请专利范围第2项所述之氢气、氧气供给系 统,其中, 依据上述第一压力检测手段所得到之压力检测讯 号进行控制供给于上述电解室之电流的电流値控 制手段。 7.如申请专利范围第6项所述之氢气、氧气供给系 统,其中,在上述电流値控制手段中,进行使用整流 器之整流器PID控制。 8.如申请专利范围第6项或第7项所述之氢气、氧气 供给系统,其中, 上述电流値控制手段具有序列器与整流器; 上述序列器系依据在上述第一压力检测手段所得 到之压力检测讯号进行PID控制并形成指令値; 上述整流器系依据该指令値而将电流供给于上述 电解室。 9.如申请专利范围第1项或第2项所述之氢气、氧气 供给系统,其中, 具有用以供给上述氢气之氢气气体供给配管部,及 设于上述氢气气体供给配管部的氢气气体流量控 制手段; 上述氢气气体流量控制手段系使用流量检测手段 与额定流量控制阀所构成; 藉上述流量检测手段来检测上述氢气之供给流量, 依据上述流量检测手段之检测讯号藉由调整上述 额定流量控制阀,使得流通上述氢气气体供给配管 中之上述氢气控制成为不超过额定流量。 10.如申请专利范围第第1项或第2项所述之氢气、 氧气供给系统,其中, 设有储存在上述电解室所生成之上述氢气的氢气 分离槽,及将上述氢气分离槽内之纯水回流至上述 电解室侧的纯水回流配管部; 在上述纯水回流配管部配设有氢气放出配管部的 气体洗涤器。 图式简单说明: 第1图系表示本发明之实施形态之氢气、氧气供给 系统的概略性系统图。 第2图系表示构成图示于第1图之氢气、氧气供给 系统之水电解装置所构成的电解室之例子的概略 图,第2(a)图系表示电解槽的俯视图;第2(b)图系表示 将第2(a)图之一部分施以断面的I-I线箭视的侧视图 。 第3图系表示第2(a)图之II-II线断面中之主要部分的 断面图。 第4图系表示第2(a)图之III-III线断面中之主要部分 的断面图。 第5图系表示构成本实施形态之电解室之电极板单 元的分解立体图。 第6图系表示运转本实施形态之氢气、氧气供给系 统时的流程图。 第7图系表示本实施形态的纯水供给控制之一态样 的流程图。 第8图系表示本实施形态的施加电流値控制用之态 样的流程图。 第9图系概略地表示本发明之其他实施形态之氢气 、氧气供给系统的系统图之一部分的图式。 第10图系表示构成第1图之氢气、氧气供给系统的 氢气气体检测手段周边之其他构成的局部放大图 。
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