| 主权项 |
1.一种微影投影装置,其包括: -一辐射系统,用于提供一辐射投影光束; -一支撑结构,用以支撑图案装置,图案装置则系用 来根据所需图案将投影光束图案化; -一基板台,用以固定一基板; -一投影系统,用以将图案化之光束投影于该基板 之一目标部份;以及 -一框架,用以支撑该投影系统之复数个光学元件 及/或感测器之组件, 其特征为:该框架系由热膨胀系数低于或近乎等于 0.1 x 10-6K-1的玻璃、陶瓷、或玻璃陶瓷材料所制成 。 2.如申请专利范围第1项之装置,其中该材料系选自 由ZerodurTM、ULETM、CordieriteTM、AstrositalTM及Clearceram- ZTM所组成群组。 3.如申请专利范围第1或2项之装置,其中该材料之 热膨胀系数系低于或近乎等于0.05 x 10-6K-1。 4.如申请专利范围第1或2项之装置,其中该材料之 杨氏系数E至少达到60000MN/m2。 5.如申请专利范围第1或2项之装置,其中该框架包 括一第一薄板及至少另一薄板,该等薄板系相隔一 段距离,且其表面系做互相面对之配置,该至少另 一薄板系以加固元件与该第一薄板固定在一起,从 而能实质上防止该等薄板之挠性振动。 6.如申请专利范围第5项之装置,其中该等光学元件 系固定于该薄板上。 7.如申请专利范围第1或2项之装置,其中该等光学 元件为反射镜面。 8.如申请专利范围第1或2项之装置,其中该等光学 元件为独立地安装于该框架上。 9.一种装置之制造方法,其步骤包括: -提供至少部份由一层对辐射敏感之材料所覆盖的 一基板; -利用一辐射系统提供一辐射投影光束; -利用图案化装置赋予该投影光束一图案式之断面 ; -利用复数个之光学元件,将图案化之辐射光束投 影至该辐射敏感材料层之一目标部份; -利用感测器量测该等光学元件之位置, -其中该光学元件或该感测器系安装于一框架上, 其特征为:该框架系由热膨胀系数低于或近乎等于 0.1 x 10-6K-1的一玻璃、陶瓷、或玻璃陶瓷材料所制 成。 图式简单说明: 图1显示依据本发明的一项具体实施例之一微影投 影装置;以及 图2为依据本发明之具体实施例的微影投影装置之 投影系统的一框架断面图。 |
