| 主权项 |
1.一种导光柱之改良结构,包括: 一导光柱本体,系以导光效率极佳之材质制成,以 利于光线传导; 一反射层,设于前述导光柱本体之周缘呈弧形延伸 ; 复数反光凹陷部,设于该导光柱本体周缘之反射层 部位内部,藉以使反射层内形成复数凹陷之反射面 ,以使导光柱本体内沿轴向传导之光线可产生其它 方向之反射,达到均匀扩散之效果。 2.如申请专利范围第1项所述之导光柱之改良结构, 其中该反射层之分布系自35度至45度之间。 3.如申请专利范围第2项所述之导光柱之改良结构, 其中该反射层之分布以45度为最佳。 4.如申请专利范围第1项所述之导光柱之改良结构, 其中该反光凹陷部系复数由中央向二旁侧渐浅之 方形横切槽。 5.如申请专利范围第1项所述之导光柱之改良结构, 其中该反光凹陷部系复数由中央向二旁侧渐浅之 弧形横切槽。 6.如申请专利范围第1项所述之导光柱之改良结构, 其中该反光凹陷部系复数等高之方形横切槽。 7.如申请专利范围第1项所述之导光柱之改良结构, 其中该反光凹陷部系复数等高之弧形横切槽。 8.如申请专利范围第1项所述之导光柱之改良结构, 其中该反射层系一体成型于该导光柱内。 9.如申请专利范围第1项所述之导光柱之改良结构, 其中该反射层系一喷涂于该光柱表面。 10.如申请专利范围第1项所述之导光柱之改良结构 ,其中该反射层可喷涂充满该反光凹陷部。 11.如申请专利范围第1项所述之导光柱之改良结构 ,其中该导光柱之材质系选自光纤、压克力之一。 图式简单说明: 第一图系本创作第一实施例之第一实施态样构造 图。 第二图系本创作第一实施例之第二实施态样构造 图。 第三图系本创作第一实施例之第三实施态样构造 图。 第四图系本创作第一实施例之第四实施态样构造 图。 第五图系本创作第一实施例之第五实施态样构造 图。 第六图系本创作第一实施例之横向剖视图。 第七图系本创作第二实施例之第一实施态样构造 图。 第八图系本创作第二实施例之第二实施态样构造 图。 第九图系本创作第二实施例之第三实施态样构造 图。 第十图系本创作第二实施例之第四实施态样构造 图。 第十一图系本创作第二实施例之第五实施态样构 造图。 第十二图系本创作第二实施例之横向剖视图。 第十三图系本创作应用实施例图(一)。 第十四图系本创作应用实施例图(二)。 第十五图系本创作应用实施例图(三)。 第十六图系本创作应用实施例图(四)。 第十七图系本创作应用实施例图(五)。 第十八图系本创作应用实施例图(六)。 第十九图系本创作应用实施例图(七)。 |
