METHOD FOR FORMING CAPACITOR BOTTOM ELECTRODE OF SEMICONDUCTOR DEVICE BY USING OXIDATION AND POLISHING,申请号KR19990048711-传众专利搜索

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发明名称	METHOD FOR FORMING CAPACITOR BOTTOM ELECTRODE OF SEMICONDUCTOR DEVICE BY USING OXIDATION AND POLISHING
摘要
申请公布号	KR100529380(B1)	申请公布日期	2005.11.17
申请号	KR19990048711	申请日期	1999.11.05
申请人		发明人
分类号	H01L21/28;(IPC1-7):H01L21/28	主分类号	H01L21/28
代理机构		代理人
主权项
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