Verfahren zum Beschichten von Substraten in Inline-Anlagen

摘要

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Beschichten von Substraten in Inline-Anlagen, bei denen sich ein Substrat durch wenigstens eine Beschichtungskammer bewegt und während dieser Bewegung beschichtet wird. Bei diesem Verfahren wird zunächst ein Modell der Beschichtungskammer gebildet, das die Änderungen von Kammerparametern berücksichtigt, die durch die Bewegung des Substrats durch die Beschichtungskammer verursacht werden. Sodann wird die jeweilige Position des Substrates innerhalb der Beschichtungskammern erfasst. Anschließend werden die Kammerparameter aufgrund der Position des Substrates nach Maßgabe des Modells der Beschichtungskammern eingestellt.