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Trägerplatte für Sputtertargets aus einem Verbundwerkstoff, der 5 bis 99 Gew.-% mindestens eines Refraktärmetalls aus der Gruppe Mo, W, Re, Ta und 95 bis 1 Gew.-% mindestens einer weiteren metallischen Komponente aus der Gruppe Cu, Ag, Au enthält, Verfahren zu deren Herstellung und Einheit, die die Trägerplatte und ein Sputtertarget enthält.
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