发明名称 测定方法、转印特性测定方法、曝光装置之调整方法及元件制造方法
摘要 于曝光装置装载标线片进行曝光,将标线片上的测定用标记转印至晶圆上来形成测定用标记的第1转印像(步骤212)。其次,于旋转晶圆后(步骤218),对旋转后的晶圆转印测定用标记来形成测定用标记的第2转印像(步骤224)。以此方式,根据测定用标记转印时晶圆相对标线片的方向,以SEM(扫描型电子显微镜)取得分别形成于晶圆上的测定用标记的第1、第2转印像的影像。在不旋转任一影像的状态下,对所取得之各影像施以使测定方向共通的影像处理,来测定测定用标记的第1、第2转印像分别于测定方向的尺寸。藉此,防止影像取得与影像处理的组合所造成之标记尺寸测定精度的降低。
申请公布号 TW200537597 申请公布日期 2005.11.16
申请号 TW094103877 申请日期 2005.02.05
申请人 尼康股份有限公司 发明人 吉川伊织
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人 林镒珠
主权项
地址 日本