具有晶圆边缘曝光功能之晶圆对准器

摘要

一种改良的光阻涂布及显影系统，包括一轨道单元及一扫描单元。此轨道单元具有可于晶圆上涂布光阻之一涂布装置。此扫描单元包括一先进晶圆预对准模组、一曝光台以及一显影模组。先进的晶圆预对准模组可用来进行晶圆边缘曝光(Wafer Edge Exposure，WEE)，通常需要独立的WEE模组做为轨道单元的一部份。藉由将WEE功能与扫描单元中的晶圆预对准模组相结合，轨道单元中将不再需要WEE模组，并且WEE模组也不须再重覆执行晶圆对准及置中。