发明名称 微影装置及元件制造方法
摘要 于一微影装置中,一辐射光束沿一光束路径传递至一基板,以将经图案化之照射施加至该基板。一可互换之孔径屏插入该光束路径中,以部分地阻挡该光束经由该路径之剩余部分射至该基板上。一测试表面设置于该孔径屏上,以使该测试表面接收到一部分未沿该光束路径之剩余部分传递之光束。该测试表面由一材料制成,该材料在该光束之辐射作用下,对在该光束之辐射作用下亦会影响光学元件之化学变化敏感。在该测试表面曝光于该光束后,随即分析该测试表面之化学变化。
申请公布号 TW200537238 申请公布日期 2005.11.16
申请号 TW094101842 申请日期 2005.01.21
申请人 ASML公司 发明人 忧维 麦肯;乔汉斯 哈博特 乔瑟菲那 莫斯;JOSEPHINA
分类号 G03B27/54 主分类号 G03B27/54
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 荷兰