| 摘要 |
本发明提供一种间隔物形成用放射线敏感性树脂组合物，该组合物能够抑制由于放射线敏感性聚合引发剂成分的昇华所引起的光掩模等的污染，不会产生液中异物，而且可以形成一种具有高的灵敏度和图像解析度，同时在断面形状、抗压强度、耐摩擦性、与透明基板的黏附性等均优良的间隔物。该间隔物形成用放射线敏感性树脂组合物含有：〔A〕不饱和羧酸(酸酐)、含有环氧基的不饱和化合物与其他不饱和化合物的共聚物；〔B〕聚合性不饱和化合物；以及〔C〕以由下列式(1)表示的化合物作为必要成分的放射线敏感性聚合引发剂；094104389-p01.bmp式中，R^1表示烷基；R^2和R^3表示氢原子、烷基或基；R^4、R^5、R^7和R^8表示氢原子、卤素原子、烷基或者烷氧基；R^6表示卤素原子、烷基、烷氧基等。094104389-p01.bmp |
