微影评估方法、微影方法及记忆媒体

摘要

本发明提供一种微影评估方法，其系即使于基板未由均一材质构成之情形时，亦可正确评估近接效应者。微影评估方法包含下述之步骤：准备基板之步骤，该基板具备有矽基板1、矽基板11上之氧化矽膜12、以及包含氧化矽膜12中之Cu配线层13、14的配线构造(步骤S1)；将该基板区分为复数个评估对象区域之步骤(步骤S2)；以及比较各评估对象区域下之配线层数与临界配线层数，而评估各评估对象区域中之近接效应的步骤(步骤S3)。