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发明名称
基板之处理装置及处理方法
摘要
本发明系提供可在腔室内之宽方向与长向均匀地排出该腔室内之环境气体之基板之处理装置。该基板之处理装置具有:装置本体,系形成有利用处理液进行处理之腔室者;搬送滚轮,系沿着腔室内之预定方向搬送基板;主排气管,系位于基板上方,且沿着基板之搬送方向配置于与基板之搬送方向交叉之前述腔室的宽方向部分;及多数支排气管,系其中一端与主排气管连通,而另一端形成于位于腔室之宽方向端部且用以吸引腔室内的环境气体之吸引口,同时,以主排气管为中心对称地设于腔室之宽方向上者。
申请公布号
TW200536625
申请公布日期
2005.11.16
申请号
TW094108939
申请日期
2005.03.23
申请人
芝浦机械电子装置股份有限公司
发明人
末吉秀树;矶明典;豊岛范夫;广濑治道;高木慎一郎
分类号
B08B7/00;B65G45/10
主分类号
B08B7/00
代理机构
代理人
恽轶群;陈文郎
主权项
地址
日本
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