| 摘要 |
当从一载台(WST1(或WST2))位于有液体Lq供应之投影光学系统PL正下方之第1区域之第1状态，迁移至另一载台(WST2(或WST1))位于第1区域之第2状态时，使两载台维持于X轴方向呈近接状态朝X轴方向同时驱动。因此，能在投影光学系统与位于其正下方之特定载台之间供应液体之状态下，从第1状态迁移至第2状态。藉此，能使从一载台侧之曝光动作结束至另一载台侧之曝光动作开始为止之时间缩短，使能进行高产能之处理。又，因在投影光学系统之像面侧能使液体持续存在，故能防止在投影光学系统之像面侧之光学构件产生水痕。 |
