发明名称 |
高Q値之积体电路电感器HIGH Q FACTOR INTEGRATED CIRCUIT INDUCTOR |
摘要 |
本发明揭示一种电感器及形成电感器的方法,该方法包含:(a)提供一半导体基板(substrate);(b)在该基板的一顶面上形成一介电层(dielectric layer);(c)在该介电层中形成一下方沟渠(trench);(d)在该介电层的一顶面上形成一阻抗层(resist layer);(e)在该阻抗层中形成一上方沟渠,该上方沟渠和该下方沟渠对齐,该上方沟渠的一底部对该下方沟渠为开启;及(f)以一导体完全填充该下方沟渠及至少部分填充该上方沟渠以形成该电感器。该电感器包含:一顶面、一底面及侧壁、该电感器的一下方部分延伸一固定距离至形成于一半导体基板上之一介电层、及一上方部分延伸至该介电层之上;以及电性地接触该电感器的装置。 |
申请公布号 |
TW200537671 |
申请公布日期 |
2005.11.16 |
申请号 |
TW094100050 |
申请日期 |
2005.01.03 |
申请人 |
万国商业机器公司 |
发明人 |
丹尼尔C 艾戴斯坦;帕那优提C 安卓卡寇斯;约翰M 寇特;哈里克亚 戴林恩伊;约翰H 玛格蓝恩;凯文S 佩特拉卡;肯尼士J 斯戴恩;理察P 佛兰 |
分类号 |
H01L23/48;H01L29/82 |
主分类号 |
H01L23/48 |
代理机构 |
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代理人 |
蔡玉玲 |
主权项 |
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地址 |
美国 |