发明名称 | 用于生产光学记录介质的方法和装置 | ||
摘要 | 本发明公开了一种生产单面双层光学记录介质的方法,其能够提高产量而不需要改进现有生产设备。通过颜料涂覆和溅射的步骤在第一基底上形成第一盘基底;通过第一溅射、颜料涂覆和第二溅射步骤在第二基底上形成第二盘基底。第一盘基底和第二盘基底以第一基底和第二基底位于外侧的方式结合。然后,在获得的单面双层光学记录介质上进行联机质量检查。 | ||
申请公布号 | CN1697052A | 申请公布日期 | 2005.11.16 |
申请号 | CN200510071684.5 | 申请日期 | 2005.03.23 |
申请人 | 株式会社理光 | 发明人 | 若林幸弘;中村有希;古贺升;见上竜雄 |
分类号 | G11B7/26 | 主分类号 | G11B7/26 |
代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 陶凤波;侯宇 |
主权项 | 1.一种生产光学记录介质的方法,所述光学记录介质包括第一记录层和第二记录层,并能够借助从所述光学记录介质一侧入射和反射的光束进行记录和再现,所述方法包括如下步骤:在第一基底上依次通过颜料涂覆和溅射形成所述第一记录层;在第二基底上依次通过第一溅射、颜料涂覆和第二溅射形成所述第二记录层;以及以所述第一基底和所述第二基底位于外侧的方式结合所述第一记录层和所述第二记录层。 | ||
地址 | 日本东京都 |