发明名称 |
催化剂回收方法及用该方法回收的催化剂、基体材料的回收方法及用该回收方法回收的基体材料 |
摘要 |
本发明是从其表面的至少一部分上形成催化剂层的基体材料构成的催化剂构件上回收催化剂的回收方法,所述方法具有(a)在该催化剂层表面上形成保护涂层的步骤和(b)在该保护涂层呈现的膨胀性能或收缩性能与该基体材料呈现的上述性能之间存在差异的情况下,放置形成有该保护涂层的催化剂构件的步骤,而且能够利用在该条件下发生的膨胀性能或收缩性能的差异从该基体材料上剥离该催化剂层。 |
申请公布号 |
CN1697704A |
申请公布日期 |
2005.11.16 |
申请号 |
CN200480000074.X |
申请日期 |
2004.03.09 |
申请人 |
松下电器产业株式会社 |
发明人 |
胁田英延;田口清;藤原诚二;鹈饲邦弘 |
分类号 |
B01J38/00 |
主分类号 |
B01J38/00 |
代理机构 |
上海新天专利代理有限公司 |
代理人 |
衷诚宣 |
主权项 |
1.一种催化剂回收方法,是从其表面的至少一部分上形成催化剂层的基体材料构成的催化剂构件上回收催化剂的回收方法,其特征在于,具有以下步骤,即(a)在该催化剂层表面上形成保护涂层的步骤、以及(b)在该保护涂层呈现的膨胀性能或收缩性能与该基体材料呈现的上述性能之间存在差异的条件下,放置形成有该保护涂层的催化剂构件的步骤,而且能够利用在该条件下发生的膨胀性能或收缩性能的差异,从该基体材料上剥离该催化剂层。 |
地址 |
日本国大阪府门真市 |