在真空室中传送平坦基片的装置

摘要

本发明涉及一种传送平坦基片通过涂覆设备的装置。该涂覆设备包括例如真空中多个不同的溅射阴极，平坦基片例如玻璃板被先后传送至所述的多个溅射阴极。为了使玻璃板和接触点之间不产生磨损，通过气体压力使玻璃板保持与接触点分开。气体压力通过在气体通道中的相对少的和小的孔来建立。因为在将涂覆装置充气到大气压力和抽空期间，由于这些小孔，在气体通道和其余涂覆装置之间不可能有快速的压力平衡，因此使气体通道与气体涂覆装置在气体方面分离，并给气体通道提供独立的气体管线，气体通过所述管线可以进入气体通道或从中抽出。

主权项

1.在真空室中传送平坦基片的装置，其特征在于与所述平坦基片(5)的一面相对，设置具有朝向所述平坦基片(5)方向的孔的的气体通道(9)，所述气体通道(9)可以相关于气体与真空室分离。