| 发明名称 | 激光辐射方法及激光辐射装置 | ||
| 摘要 | 本发明的目的是提供一种激光辐射技术，其利用柱面透镜阵列、以强度分布均匀的激光束来照射辐射表面而不受原束强度分布影响。激光振荡器发射的激光束被两种柱面透镜阵列分割成多个光束，它们是能量强度分布彼此相反的两种线性激光束，且此两种线性激光束沿短轴方向被叠加。这就能够在辐射表面上形成强度分布均匀的线性激光束。 | ||
| 申请公布号 | CN1696763A | 申请公布日期 | 2005.11.16 |
| 申请号 | CN200510072607.1 | 申请日期 | 2005.05.16 |
| 申请人 | 株式会社半导体能源研究所 | 发明人 | 田中幸一郎;大石洋正 |
| 分类号 | G02B27/00;H01L21/027;G02B3/00 | 主分类号 | G02B27/00 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 张雪梅;张志醒 |
| 主权项 | 1.一种激光辐射方法，包含：从激光振荡器发射激光束；利用至少第一柱面透镜阵列和第二柱面透镜阵列，形成其能量强度分布彼此相反的至少两个激光束；以及通过沿短轴方向叠加此至少两个激光束，将线性激光束投射在辐射表面上。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||