发明名称 | 一种氮杂环丁酮的立体选择性合成工艺 | ||
摘要 | 本发明公开了式(I)所示的3R,4R-3-[(1R)-叔丁基二甲基硅氧乙基]-4-乙酰氧基-2-氮杂环丁酮的立体选择性合成工艺,以化合物(3R,4R)-3-[(1R)-羟乙基]-4-乙酰基-1-对甲氧基苯基-2-氮杂环丁酮(II)为原料,经过TBDMS保护羟基、分批加入间氯过氧苯甲酸氧化和硝酸铈铵饱和水溶液脱除N上的保护基三步反应合成。式(I)化合物可在碳青霉烯和青霉烯类药物的合成中用作中间体。本发明的方法合成步骤少,立体选择性和收率较高,成本低,可用于工业化大生产。 | ||
申请公布号 | CN1696113A | 申请公布日期 | 2005.11.16 |
申请号 | CN200410038030.8 | 申请日期 | 2004.05.14 |
申请人 | 中国医学科学院药物研究所 | 发明人 | 吴松;刘倩 |
分类号 | C07D205/08 | 主分类号 | C07D205/08 |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 李华英 |
主权项 | 1.式I化合物(3R,4R)-3-[(1R)-叔丁基二甲基硅氧乙基]-4-乙酰氧基-2-氮杂环丁酮的制备方法,<img file="A2004100380300002C1.GIF" wi="1183" he="396" />它包括使式IV的(3R,4R)-3-[(1R)-叔丁基二甲基硅氧乙基]-4-乙酰氧基-1-对甲氧基苯基-2-氮杂环丁酮溶于可与水混溶的有机溶剂中,分批加入硝酸铈铵的饱和水溶液,经氧化、脱保护基得到化合物I。 | ||
地址 | 100050北京市宣武区先农坛街一号 |