用于对一等离子处理系统进行工具匹配和故障排除的方法

摘要

本发明揭示一种测试一包括一腔室、一射频功率源以及一匹配网络的等离子处理系统的方法。从所述射频功率源向所述腔室生成一射频功率信号，但不触发所述腔室内的任何等离子。在影响所述腔室的其它参数均保持恒定的情况下，对所述腔室收到的所述射频功率信号的电压、所述射频功率信号的电流以及所述射频功率信号的相位进行测量。基于所述电压、电流和相位计算出代表所述腔室阻抗的一个数值。将所述数值与一个参考值加以对比，从而确定所述等离子处理系统内的任何缺陷。所述参考值代表一无缺陷腔室的阻抗。

主权项

1、一种测试一等离子处理系统的方法，所述系统具有一腔室、一射频功率源和一匹配网络，所述方法包括：从所述射频功率源向所述腔室生成一射频功率信号，但不触发所述腔室内的任何等离子；在影响所述腔室的其它参数保持恒定的情况下，测量所述腔室接收到的所述射频功率信号的一电压值、所述射频功率信号的一电流值和所述射频功率信号的一相位；基于所述电压值、所述电流值和所述相位，计算出代表所述腔室阻抗的一数值；及将所述数值与一参考值加以对比，确定所述等离子处理系统内的任何缺陷，所述参考值代表一无缺陷腔室的阻抗。