发明名称 提拉式乾燥装置
摘要 本发明主要提供一种,降低乾燥时产生污染的危险性,可抑制设备成本及设置面积,并且能以批次来处理半导体装置的基板、液晶面板的基板等必需严格清净化的零件材料的乾燥适切、新型的乾燥方法及乾燥装置。提拉槽10上缘的四个边中对向的一对边较其他的两边低,内部的水能流出而排到排水槽20的越流部10a。提拉槽10内侧装配着棒状的加热器11,其上方则设置了加热器盖12,导出一对排气管13、13,此排气管13一直延伸到提拉槽10上方,作为排放气体至外部之用。提拉槽10底部与给水管14相接,由后述的给水系统供给超纯水。排水槽20下部与排水管21相接,此排水管接于由循环帮浦、切换阀等所构成的给水控制装置22。
申请公布号 TWI243261 申请公布日期 2005.11.11
申请号 TW091115071 申请日期 1997.06.12
申请人 精工爱普生股份有限公司 发明人 井出胜也;大池一夫;北川康弘
分类号 G02F1/13;H01L21/00 主分类号 G02F1/13
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 1.一种提拉式乾燥装置,系藉由提拉沉入水中的零 件使该零件乾燥,其特征包含: 提拉槽,沉入该零件; 排水手段,排出该提拉槽中的水; 给水控制手段,监控该排水的纯度,并且再度使该 排水循环于该提拉槽内或排出到外部; 加热器,配设于该提拉槽内部; 加热器盖,配设于该加热器的上方,收集在该加热 器所产生的气体;以及 排气管,使被收集于该加热器盖的该气体散逸到该 提拉槽外,其中 该给水控制手段依照需要对该提拉槽内供给纯水 。 图式简单说明: 图1所示的是本发明中所用提拉乾燥装置的实施形 态之全体概略构造的纵断面图。 图2所示的是相同实施形态中加热器、加热器盖及 排气管之构造的扩大斜视图。 图3所示的是相同实施形态中提拉槽及排水槽的概 略装配构造模式的斜视图。 图4所示的是相同实施形态中载物架的一部份平面 断面图。 图5所示的是相同实施形态中载物架的纵断面图。 图6所示的是载物架的提拉状态说明图。
地址 日本