发明名称 电致发光装置
摘要 一种隔离堤构件形成在电致发光装置的发光区周围,以围绕着发光区的整个外围。在既非形成阳极的第一电极引出部分,亦非形成阴极的第二电极引出部分之部分,隔离堤构件系形成在玻璃基板和密封层之间的介面上,在形成第一电极引出部分之部分,隔离堤构件系形成在密封层和第一电极引出部分之间的介面上,及在形成第二电极引出部分之部分,隔离堤构件系形成在第二电极引出部分和玻璃基板之间的介面上。即使水气或气体侵入那些介面,隔离堤构件也能吸附水气或气体,防止其进一步侵入而越过隔离堤构件。
申请公布号 TWI243627 申请公布日期 2005.11.11
申请号 TW093125986 申请日期 2004.08.30
申请人 丰田自动织机股份有限公司 发明人 加藤祥文;伊藤日艺
分类号 H05B33/22;G09F9/00 主分类号 H05B33/22
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼;何秋远 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项 1.一种电致发光装置,包含: 一基板; 一形成在基板的表面上之电致发光(EL)组件,此组 件至少包含依序堆叠在基板上之一第一电极层、 一电致发光层和一第二电极层; 一覆盖在EL组件表面上之密封层;以及 一位在密封层和基板之间之隔离堤构件,其被用以 避免发生至少液体或气体其中之一,自外部侵入密 封层和基板之间的任何介面,而到达电致发光层之 情形。 2.如申请专利范围第1项之EL装置,其中隔离堤构件 系围绕着电致发光层的整个外围形成。 3.如申请专利范围第1项之EL装置,其中: 第二电极层具有延伸到位在基板上方之电致发光 层外部的电极引出部分,其上表面被密封层覆盖, 而在第二电极层的电极引出部分和基板之间的介 面上,则形成隔离堤构件。 4.如申请专利范围第3项之EL装置,其中在第二电极 层的电极引出部分和位在隔离堤构件上方之密封 层之间的介面向上突出成凸形。 5.如申请专利范围第1项之EL装置,其中第一电极层 具有延伸到位在基板上方之电致发光层外部的电 极引出部分,其上表面被密封层覆盖,而在第一电 极层的电极引出部分和密封层之间的介面上,则形 成隔离堤构件。 6.如申请专利范围第1项之EL装置,其中隔离堤构件 系由至少能吸附液体或气体其中之一之材料形成 。 7.如申请专利范围第6项之EL装置,其中隔离堤构件 系由和电致发光层相同之材料形成。 8.如申请专利范围第1项之EL装置,其中隔离堤构件 系由和基板相同之材料形成,而且系自基板向上突 出形成。 9.如申请专利范围第1项之EL装置,其中第一电极层 具有延伸到位在基板上方之电致发光层外部的电 极引出部分,其上表面被密封层覆盖,而在第一电 极层的电极引出部分和基板之间的介面上,则形成 隔离堤构件。 10.如申请专利范围第9项之EL装置,其中第一电极层 的电极引出部分和位在隔离堤构件上方之密封层 之间的介面向上突出成凸形。 11.如申请专利范围第1项之EL装置,其中隔离堤构件 具有当作使第一电极层和第二电极层彼此绝缘之 绝缘膜的功能。 12.如申请专利范围第1项之EL装置,其中隔离堤构件 形成之高度约为50nm到500nm。 图式简单说明: 第1图为根据本发明第一实施例之EL装置结构的平 面图; 第2A图到第2C图分别为沿着第1图的线A-A、线B-B、 和线C-C所取之横截面图,其中每一个图都图示根据 本发明第一实施例之EL装置; 第3A图到第3C图为根据本发明第一实施例之EL装置, 依制造方法之步骤顺序的平面图; 第4A图到第4C图分别为对应沿着第1图的线A-A、线B- B、和线C-C所取之横截面图,其中每一个图都图示 根据本发明第二实施例之EL装置; 第5A图到第5C图分别为沿着第1图的线A-A、线B-B、 和线C-C所取之横截面图,其中每一个图都图示根据 本发明第三实施例之EL装置;以及 第6图为用以制造本发明第一到第三实施例之修正 例的遮罩平面图。
地址 日本