Optische Abbildungsvorrichtung

摘要

Optische Abbildungsvorrichtung, insbesondere Objektiv für die Mikrolithographie zur Herstellung von Halbleiterbauelementen, mit einer im Bereich einer Pupillenebene der optischen Abbildungsvorrichtung angeordneten Einrichtung zum Abdunkeln der Pupille. Die Einrichtung weist mechanische Elemente (11a-11e) auf, welche über einen Antrieb in der Art betätigbar sind, dass die Abdunklung der Pupille radial variierbar ist.