一种制备玻璃基硅光波导材料的方法

摘要

本发明涉及一种玻璃基硅光波导材料的制备方法。该材料是以玻璃为衬底，硅为导波层。其制备方法为：将绝缘体上的硅材料(SOI)的顶层硅和玻璃片的抛光面常规清洗、烘干后进行键合，键合后利用自停止效应去除SOI硅片的底层硅。该材料和制作工艺的优点是：所制得的光波导材料的导波层厚度可以从几十纳米到几微米，而且厚度均匀性高；玻璃作为限制层，限制效果好；键合面在键合之前可以通过各种工艺过程来实现设定的图案、电极等。

主权项

1、一种制备玻璃基硅光波导材料的方法，其特征在于利用绝缘体上硅材料片与玻璃的键合和自停止效应制备玻璃基硅光波导材料，进而制作硅光波导。