| 发明名称 | 用于过程控制拐点特征修饰的方法和系统 | ||
| 摘要 | 本发明涉及在工件上生成图案时校正光学邻近和其它效应的过程控制下、修饰拐点特征(内部和外部)的方法和系统。工件包括平板印刷掩模和通过直接写入生成的集成电路。本发明的特定方面在权利要求、说明书和附图中加以描述。 | ||
| 申请公布号 | CN1695150A | 申请公布日期 | 2005.11.09 |
| 申请号 | CN03825015.2 | 申请日期 | 2003.09.29 |
| 申请人 | 麦克罗尼克激光系统公司 | 发明人 | 托布乔恩·桑兹特罗姆;汉斯·马丁森;尼克拉斯·埃里克森;乔纳斯·赫尔格伦 |
| 分类号 | G06F17/50;//G03F9/00 | 主分类号 | G06F17/50 |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 马莹;邵亚丽 |
| 主权项 | 1.一种在光栅化数据域中提供拐点特征处曝光的过程控制的方法，该方法包括：提供拐点近邻曝光调整图形；将该曝光调整图形应用于在光栅化曝光图案数据中的拐点特征，以便将曝光调整为该拐点特征的预定近邻内的工件辐射能量；以及利用该调整的曝光图案数据在工件上产生图案。 | ||
| 地址 | 瑞典泰比 | ||