| 发明名称 | 带有可转动的磁控管的大面积组件的镀膜机 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一用于镀膜的镀膜机，特别是通过阴极溅射方法对大面积基片镀膜的镀膜机，该镀膜机带有一镀膜室，且其中设置一阴极组件(2)，在该阴极组件(2)中，用于溅射的材料被设置在具有弯曲表面的靶(4)上，该用于溅射的材料特别位于圆柱的侧面上；至少3个、优选更多的带有可转动的、弯曲的靶(4)的阴极组件(2)被并排地设置在用于连贯的镀膜区域的单一的镀膜室中。 | ||
| 申请公布号 | CN1693532A | 申请公布日期 | 2005.11.09 |
| 申请号 | CN200510069952.X | 申请日期 | 2005.04.30 |
| 申请人 | 应用薄膜有限责任与两合公司 | 发明人 | 斯特凡·班格特;弗兰克·富克斯;拉尔夫·林登贝格;安德烈亚斯·勒普;乌韦·许塞勒;托比亚斯·施托莱 |
| 分类号 | C23C14/34;C23C14/35;H01J23/05 | 主分类号 | C23C14/34 |
| 代理机构 | 北京邦信阳专利商标代理有限公司 | 代理人 | 王昭林;方诗龙 |
| 主权项 | 1.一种用于镀膜的镀膜机，特别是通过阴极溅射对大面积基片镀膜的镀膜机，其具有一镀膜室和设于镀膜室内的一阴极组件(2)，在该阴极组件(2)处待溅射的材料被定位在靶(4)上，该靶(4)在镀膜过程中转动且具有曲形表面，该待溅射的材料特别位于圆柱的侧表面上，其特征在于：至少3个、优选更多的带有多个可转动的、弯曲的靶(4)的阴极组件(2)被并排地设置在用于连贯的镀膜区域的单一的镀膜室中。 | ||
| 地址 | 联邦德国阿尔泽瑙 | ||