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经营范围
发明名称
Apparaus and method for chemically and mechanically polishing wafer
摘要
申请公布号
KR100526920(B1)
申请公布日期
2005.11.09
申请号
KR19990000824
申请日期
1999.01.14
申请人
发明人
分类号
H01L21/304;(IPC1-7):H01L21/304
主分类号
H01L21/304
代理机构
代理人
主权项
地址
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