SUPERCRITICAL CARBON DIOXIDE/CHEMICAL FORMULATION FOR REMOVAL OF PHOTORESISTS,申请号EP20030779250-传众专利搜索

发明名称	SUPERCRITICAL CARBON DIOXIDE/CHEMICAL FORMULATION FOR REMOVAL OF PHOTORESISTS
摘要
申请公布号	EP1592520(A2)	申请公布日期	2005.11.09
申请号	EP20030779250	申请日期	2003.10.27
申请人	ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC.	发明人	KORZENSKI, MICHAEL, B.;GHENCIU, ELIODOR, G.;XU, CHONGYING;BAUM, THOMAS, H.
分类号	C11D7/02;C11D7/10;C11D7/32;C11D7/50;G03F7/42;(IPC1-7):B05D1/00	主分类号	C11D7/02
代理机构		代理人
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