发明名称 Niedrig dotierte Schicht für ein nitrid-basiertes Halbleiterbauelement
摘要 Eine wiederholbare und einheitlich niedrig-dotierte Schicht wird gebildet mittels Modulationsdotierens durch das Bilden sich abwechselnder Teilschichten aus dotiertem und undotiertem Nitrid-Halbleitermaterial auf einer anderen Schicht. Eine Schottky-Diode wird aus einer solchen niedrig-dotierten Nitrid-Halbleiter-Schicht gebildet, die auf einer weit höher dotierten Nitrid-Halbleiter-Schicht abgeschieden wird. Das sich ergebende Bauelement hat sowohl einen niedrigen Einschaltwiderstand, wenn das Bauelement in Durchlassrichtung geschaltet ist, und eine hohe Durchschlagspannung, wenn das Bauelement in Sperrichtung geschaltet ist.
申请公布号 DE102005006766(A1) 申请公布日期 2005.11.03
申请号 DE200510006766 申请日期 2005.02.15
申请人 VELOX SENICONDUCTOR CORP., SOMERSET 发明人 POPHRISTIC, MILAN;MURPHY, MICHAEL;STALL, RICHARD A.;SHELTON, BRYAN S.;LIU, LINLIN;CERUZZI, ALEX D.
分类号 H01L21/28;H01L29/15;H01L29/20;H01L29/45;H01L29/47;H01L29/778;H01L29/872;(IPC1-7):H01L21/329 主分类号 H01L21/28
代理机构 代理人
主权项
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