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Ein Verfahren dient zur Justage eines Projektionsobjektivs einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie zur Herstellung von Halbleiterbauelementen mit mehreren über Manipulatoren einstellbaren optischen Elementen zur simultanen Minimierung mehrerer Abbildungsfehler des Projektionsobjektivs (7). Die Minimierung der Abbildungsfehler wird durch eine Manipulation wenigstens eines Teils der optischen Elemente mit deren jeweiligen Manipulatoren durchgeführt. Die Justage wird mittels einer nicht-linearen Min-Max-Optimierung mehrerer zur Beschreibung der Abbildungseigenschaften des Projektionsobjektivs (7) geeigneter Parameter an verschiedenen Feldpunkten in einer Bildebene (20, 21) des Projektionsobjektivs durchgeführt, wobei die einzelnen Parameter des Feldpunktes, welcher den maximalen Abbildungsfehler aufweist, optimal wird. |
