| 发明名称 |
Metall-Halbleiter-Kontakt, Halbleiterbauelement, integrierte Schaltungsanordnung und Verfahren |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE10217610(B4) |
申请公布日期 |
2005.11.03 |
| 申请号 |
DE20021017610 |
申请日期 |
2002.04.19 |
| 申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG |
发明人 |
MAUDER, ANTON;STRACK, HELMUT;TIHANYI, JENOE;SCHULZE, HANS-JOACHIM;KAPELS, HOLGER |
| 分类号 |
H01L21/285;H01L29/06;H01L29/08;H01L29/10;H01L29/167;H01L29/32;H01L29/45;H01L29/78;(IPC1-7):H01L21/28 |
主分类号 |
H01L21/285 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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