发明名称 CHEMICAL MECHANICAL POLISHER
摘要
申请公布号 KR20050104964(A) 申请公布日期 2005.11.03
申请号 KR20040030436 申请日期 2004.04.30
申请人 MAGNACHIP SEMICONDUCTOR, LTD. 发明人 PARK, JONG HYUK
分类号 H01L21/304;(IPC1-7):H01L21/304 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
主权项
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