| 发明名称 | 变形镜及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种变形镜及其制备方法，属于变形镜加工制备领域。该变形镜包括镜面单元和控制电极，镜面单元为一硅片，通过刻蚀硅片，镜面单元包括：一薄膜镜面和一带有若干个凸台的背腔，控制电极固定在衬底上，通过阳极键合将镜面单元与衬底固定连接，镜面单元的凸台与控制电极相对应，两者之间留有间隙。与表面工艺制作的变形镜相比，本发明增大了镜面的有效变形范围，大大提高了变形镜的应用领域，且利用刻蚀体硅方法制得薄膜来充当镜面，可以减小由于应力造成的镜面卷曲。 | ||
| 申请公布号 | CN1690765A | 申请公布日期 | 2005.11.02 |
| 申请号 | CN200410009049.X | 申请日期 | 2004.04.27 |
| 申请人 | 北京大学 | 发明人 | 郝一龙;杜先锋;张大成;余宏斌;李婷;王玮 |
| 分类号 | G02B26/08;G03F7/20 | 主分类号 | G02B26/08 |
| 代理机构 | 北京君尚知识产权代理事务所 | 代理人 | 贾晓玲 |
| 主权项 | 1.一种变形镜，包括：镜面单元和控制电极，其特征在于：镜面单元为一硅片，通过刻蚀硅片，镜面单元包括：一薄膜镜面和一带有若干个凸台的背腔，控制电极固定在衬底上，将镜面单元与衬底固定连接，镜面单元的凸台与控制电极相对应，两者之间留有间隙。 | ||
| 地址 | 100089北京市海淀区颐和园路5号 | ||