| 发明名称 | 半导体器件制造装置用处理管 | ||
| 摘要 | 1.主视图与后视图对称，省略后视图。2.本外观设计的产品由透明材料(例如，透明石英)制成。3.本外观设计的处理管产品用于半导体制造。 | ||
| 申请公布号 | CN3484414D | 申请公布日期 | 2005.11.02 |
| 申请号 | CN200430049919.7 | 申请日期 | 2004.04.30 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 石井胜利;松浦广行 |
| 分类号 | 23-03 | 主分类号 | 23-03 |
| 代理机构 | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 柳春雷 |
| 主权项 | |||
| 地址 | 日本东京都 | ||