| 发明名称 | 电子材料用基板洗净液 | ||
| 摘要 | 本发明提供不腐蚀金属、能够高效率地同时去除基板表面的金属杂质和颗粒的洗净液。该洗净电子材料用基板的洗净液含有分散剂和表面活性剂中的至少一种及有机酸化合物，且该洗净液不含有碱；所述有机酸化合物是从草酸、丙二酸、苹果酸、酒石酸、柠檬酸及它们的铵盐组成的组中选择的1种或2种以上，且所述有机酸化合物的量是所述洗净液的总量的0.01～30重量％；所述表面活性剂是阴离子型或者非离子型表面活性剂；所述分散剂是磷酸酯，且所述分散剂和表面活性剂的量是所述洗净液的总量的0.0001～10重量％。 | ||
| 申请公布号 | CN1225529C | 申请公布日期 | 2005.11.02 |
| 申请号 | CN00106046.5 | 申请日期 | 2000.04.20 |
| 申请人 | 关东化学株式会社 | 发明人 | 石川典夫;阿部优美子;森清人 |
| 分类号 | C11D1/00;C11D3/20;H01L21/461 | 主分类号 | C11D1/00 |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 过晓东 |
| 主权项 | 1、洗净电子材料用基板的洗净液，该洗净液含有分散剂和表面活性剂中的至少一种及有机酸化合物，且该洗净液不含有碱；所述有机酸化合物是从草酸、丙二酸、苹果酸、酒石酸、柠檬酸及它们的铵盐组成的组中选择的1种或2种以上，且所述有机酸化合物的量是所述洗净液的总量的0.01～30重量％；所述表面活性剂是阴离子型或者非离子型表面活性剂；所述分散剂是磷酸酯，且所述分散剂和表面活性剂的量是所述洗净液的总量的0.0001～10重量％。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||