| 发明名称 | 2－去氧醛糖类的制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种比以往制法的收率或容积率优越，操作简便的2－去氧醛糖类的工业制法。对通式(1)所示的2－酮－3－去氧葡糖酸等化合物用钯等金属接触氢化法还原，另外对通式(1)所示的2－酮－3－去氧葡糖酸等化合物在30倍重量以下的溶剂中用水解还原剂还原，合成2－酮－3－去氧醛糖酸，该2－酮－3－去氧醛糖酸脱碳酸后，得到2－去氧醛糖类。本发明的方法在经济和效率上更优越。 | ||
| 申请公布号 | CN1692119A | 申请公布日期 | 2005.11.02 |
| 申请号 | CN200380100701.2 | 申请日期 | 2003.12.24 |
| 申请人 | 三井化学株式会社 | 发明人 | 梅谷豪毅;小松弘典;安藤知行;富樫和彦 |
| 分类号 | C07H1/00;C07H3/02;C07D307/33 | 主分类号 | C07H1/00 |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 刘建 |
| 主权项 | 1.一种通式(4)所示的化合物的制备方法，包括由通式(1)<img file="A2003801007010002C1.GIF" wi="729" he="280" />式中X表示氢原子、碱金属或碱土类金属，n表示0或1，所示的化合物，还原为通式(2)<img file="A2003801007010002C2.GIF" wi="557" he="432" />式中n与前述相同，和/或通式(3)<img file="A2003801007010002C3.GIF" wi="700" he="281" />式中X，n与前述相同，所示化合物的工序，和由通式(2)和/或通式(3)所示的化合物向通式(4)<img file="A2003801007010003C1.GIF" wi="632" he="284" />式中n与前述相同，所示化合物的脱碳酸工序。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||