顶端抗反射涂料聚合物、制法及顶端抗反射涂料组合物

摘要

本发明公开了一种用于光刻法的顶端抗反射涂料聚合物，一种制备该抗反射涂料聚合物的方法及含有该抗反射涂料聚合物的抗反射涂料组合物，其中该光刻法是半导体器件制造方法中的一种。具体地说，该顶端抗反射涂料聚合物用于制造亚－50纳米半导体器件的浸没式光刻。该顶端抗反射涂料聚合物由上式1表示。其中R1、R2及R3独立为氢或甲基；a、b与c代表各单体的摩尔分数，且在0.05至0.9的范围内。由于使用该抗反射涂料聚合物形成的顶端抗反射涂层不溶于水中，因此其可应用于使用水作为光源介质的浸没式光刻中。此外，由于该顶端抗反射涂层可降低来自下层的反射，改善了CD的均匀性，因而可形成超细图样。

主权项

1.一种重均分子量为1,000～1,000,000的顶端抗反射涂料聚合物，该涂料聚合物由下式1表示：[式1]其中R1、R2及R3独立为氢或甲基；a、b与c代表各单体的摩尔分数，且在0.05至0.9的范围内。