| 发明名称 | 光掩模坯料和光掩膜 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种光掩模坯料和光掩模。可以防止在处理要求大型而精细的图形的坯料时发生颗粒。在只除透光基板(1)的主表面上的周缘(1S)的部分之外上形成遮光膜(2)，并在把该周缘部(1S)作为遮光膜(2)的未成膜区构成的光掩模坯料中，上述透光基板(1)的尺寸其一边是300mm以上，并且上述未成膜区(S)的宽度是3mm以上，上述遮光膜(2)用激光绘图作成图形。 | ||
| 申请公布号 | CN1692312A | 申请公布日期 | 2005.11.02 |
| 申请号 | CN200380100354.3 | 申请日期 | 2003.11.28 |
| 申请人 | HOYA株式会社 | 发明人 | 大田黑竜 |
| 分类号 | G03F1/14;G03F1/08 | 主分类号 | G03F1/14 |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 李宗明;杨梧 |
| 主权项 | 1、一种光掩模坯料，在只除透光性基板的主表面上的周缘之外的部分上形成遮光膜并将该周缘部作为遮光膜的未成膜区构成的光掩模坯料，其特征在于：上述透光性基板的尺寸其一边为300mm以上，上述未成膜区的宽度是3mm以上。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||