| 发明名称 |
Particle-beam exposure apparatus |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB2413694(A) |
申请公布日期 |
2005.11.02 |
| 申请号 |
GB20050008660 |
申请日期 |
2005.04.28 |
| 申请人 |
* IMS NANOFABRICATION GMBH |
发明人 |
ELMAR * PLATZGUMMER |
| 分类号 |
G03F7/20;G21K1/08;G21K5/10;H01J37/04;H01J37/08;H01J37/09;H01J37/302;H01J37/305;H01J37/317;H01L21/027;(IPC1-7):H01J37/317 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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