| 发明名称 | 等离子体处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明的等离子体处理装置具有：容纳被处理基板的腔室；向所述腔室内提供处理气体的气体供给装置；微波导入装置，向所述腔室内导入等离子体生成用的微波。所述微波导入装置具有：输出多个规定输出的微波的微波振荡器；天线部，具有分别传送从所述微波振荡器输出的多个微波的多个天线。 | ||
| 申请公布号 | CN1692476A | 申请公布日期 | 2005.11.02 |
| 申请号 | CN200380100574.6 | 申请日期 | 2003.10.06 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 河西繁;长田勇辉;荻野贵史 |
| 分类号 | H01L21/3065 | 主分类号 | H01L21/3065 |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 龙淳 |
| 主权项 | 1.一种等离子体处理装置，其特征在于，具有：容纳被处理基板的腔室；向所述腔室内提供处理气体的气体供给装置；微波导入装置，向所述腔室内导入等离子体生成用的微波，所述微波导入装置具有：输出多个规定输出的微波的微波振荡器；天线部，具有分别传送从所述微波振荡器输出的多个微波的多个天线。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||