发明名称 METHOD AND APPARATUS OF UTILIZING A COATING FOR ENHANCED HOLDING OF A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE DURING HIGH PRESSURE PROCESSING
摘要
申请公布号 EP1590827(A2) 申请公布日期 2005.11.02
申请号 EP20040708980 申请日期 2004.02.06
申请人 SUPERCRITICAL SYSTEMS INC. 发明人 SHEYDAYI, ALEXEI;HILLMAN, JOE
分类号 B08B11/02;B25B11/00;H01L21/683;(IPC1-7):H01L21/20;H01J37/20;H01L21/68 主分类号 B08B11/02
代理机构 代理人
主权项
地址