发明名称 物理气相沉积靶材结构
摘要 本发明包括一种具有一溅镀区域与一凸缘区域之靶材结构。该凸缘区域具有一存在于一前表面之至少一部分上的保护层。本发明包括一种具有一凸缘区域之溅镀靶材结构,其中该凸缘区域之一前表面具有一平坦部分。一凹槽安置于该前表面内,且该前表面之一倾斜部分系经安置以相对于该平坦部分自该凹槽处侧向向外,该倾斜部分系相对于该平坦部分成角度。本发明包括一种具有一安置于一凸缘区域内之O形环凹槽的靶材结构。该O形环通道具有一底部表面、一节流孔、一自该底部表面延伸至该孔之第一侧壁,及一相对于该第一侧壁之第二侧壁。该通道内之一第一顶角与一第二顶角系非等角者。
申请公布号 TW200535267 申请公布日期 2005.11.01
申请号 TW094103443 申请日期 2005.02.03
申请人 哈尼威尔国际公司 发明人 史蒂芬妮 菲雷斯;法兰克 艾福德;苏珊I 葛拉米尔;韦纳 郝特;金在衍;苏珊D 史托勒;安德瑞 雷格;罗伯M 普瑞特;麦可D 佩顿
分类号 C23C14/34 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 美国