离子源

摘要

本发明有关于藉由引入替换气体的离子进入电弧室中，以控制可离子化来源气体的离子之作用的方法，该等离子可以与电弧室内表面反应，其中该等替换气体离子系较来源气体的离子可以与内表面的材料作更大之化学反应。该来源气体离子典型为氧离子，而替换气体离子典型为氟离子，其中该内部表面包含钨。氟离子可以例如来自氟、四氯化矽或三氟化氮之来源。